Comprehensive study of high pressure annealing on the ferroelectric properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films

Changyong Oh, Amit Tewari, Kyungkwan Kim, Ulayil Sajesh Kumar, Changhwan Shin, Minho Ahn, Sanghun Jeon

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

9 Sitaatiot (Scopus)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Comprehensive study of high pressure annealing on the ferroelectric properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Physics

Material Science