Influence of high-pressure annealing on memory properties of Hf0.5Zr0.5O2 Based 1T-FeRAM

Jae Seok Yoon, Amit Tewari, Changhwan Shin, Sanghun Jeon

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

12 Citeringar (Scopus)

Fingeravtryck

Fördjupa i forskningsämnen för ”Influence of high-pressure annealing on memory properties of Hf0.5Zr0.5O2 Based 1T-FeRAM”. Tillsammans bildar de ett unikt fingeravtryck.

Keyphrases

Material Science

Engineering