Comprehensive study of high pressure annealing on the ferroelectric properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films

Changyong Oh, Amit Tewari, Kyungkwan Kim, Ulayil Sajesh Kumar, Changhwan Shin, Minho Ahn, Sanghun Jeon

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

8 Citeringar (Scopus)

Fingeravtryck

Fördjupa i forskningsämnen för ”Comprehensive study of high pressure annealing on the ferroelectric properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films”. Tillsammans bildar de ett unikt fingeravtryck.

Medicin och livsvetenskap